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高含量電廠阻垢劑

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高含量電廠阻垢劑。貯于室內(nèi)陰涼通風(fēng)處,防潮,貯存期十個(gè)月。
HEDP為酸性,應(yīng)避免與眼睛、皮膚接觸,一旦濺到身上,應(yīng)立即用大量水沖洗。
乙二胺四甲叉膦酸鈉 EDTMPS
Ethylene Diamine Tetra (Methylene Phosphonic Acid) Sodium
別名:乙二胺四亞甲基膦酸鈉、乙二胺四亞甲基磷酸、乙二胺四甲叉磷酸
CAS No. 1429-50-1
分子式 C6

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2024-08-25
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:131
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高含量電廠阻垢劑

。貯于室內(nèi)陰涼通風(fēng)處,防潮,貯存期十個(gè)月。

HEDP為酸性,應(yīng)避免與眼睛、皮膚接觸,一旦濺到身上,應(yīng)立即用大量水沖洗。

乙二胺四甲叉膦酸鈉 EDTMPS

Ethylene Diamine Tetra (Methylene Phosphonic Acid) Sodium

別名:乙二胺四亞甲基膦酸鈉、乙二胺四亞甲基磷酸、乙二胺四甲叉磷酸

CAS No. 1429-50-1

高含量電廠阻垢劑

分子式 C6H12O12N2P4Na8 相

高含量電廠阻垢劑


垢的作用。ATMP在紡織印染等行業(yè)用作金屬離子螯合劑,也可用于金屬表面處理劑等。 ATMP固體為結(jié)晶性粉末,易溶于水,易吸潮,易于運(yùn)輸和使用,尤其適用于冬季嚴(yán)寒地區(qū)。由于純度較高,可用作紡織印染行業(yè)的金屬螯合劑及金屬表面處理劑。

羥基乙叉二膦酸 HEDP

HEDP是一種有機(jī)磷酸類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩(wěn)定的絡(luò)合物,能溶解金屬表面的氧化物。HEDP在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用,在高pH值下仍很穩(wěn)定,不易水解,一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它有機(jī)磷酸(鹽)好。HEDP可與水中金屬離子,尤其是鈣離子形成六圓環(huán)螯合物,因而HEDP具較好的阻垢效果并具明顯的溶限效應(yīng),當(dāng)和其它水處理劑復(fù)合使用時(shí),表現(xiàn)出理想的協(xié)同效應(yīng)。

HEDP固體屬于高純產(chǎn)品,適用于冬季嚴(yán)寒地區(qū);特別適用于電子行業(yè)的清洗劑和日用化學(xué)品添加劑

分子質(zhì)量:612.13

EDTMPS是含氮有機(jī)多元膦酸,屬陰極型


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